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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業(yè)塑料廣場）作為放電形式。 該裝置具有兩個(gè)反應(yīng)室，提高了區(qū)域生產(chǎn)率，是一種具有出色工藝再現(xiàn)性和穩(wěn)定性的正宗生產(chǎn)設(shè)備。
詳情介紹：
概述
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業(yè)塑料廣場）作為放電形式。 該裝置具有兩個(gè)反應(yīng)室，提高了區(qū)域生產(chǎn)率，是一種具有出色工藝再現(xiàn)性和穩(wěn)定性的正宗生產(chǎn)設(shè)備。
特點(diǎn)
新型ICP源「HSTC?： Hyper Symmetrical Tornado Coil」
高射頻功率（2 kW 或更高）可高效、穩(wěn)定地應(yīng)用，以實(shí)現(xiàn)良好的均勻性。
大流量排氣系統(tǒng)
通過采用與反應(yīng)室直接相連的排氣系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)了從小流量、低壓區(qū)域到大流量、高壓范圍的各種工藝窗口。
下部電極升降機(jī)構(gòu)
優(yōu)化晶圓和等離子體之間的距離，確保良好的平面內(nèi)均勻性。
易于維護(hù)的設(shè)計(jì)
TMP（渦輪分子泵）和高頻電源單元化，便于更換。
應(yīng)用示例
? 高精度加工化合物半導(dǎo)體，如 GaN、GaAs 和 InP
?高速加工SiC、SiO
? 蝕刻難蝕刻材料，如鐵電體（PZT、BST、SBT、BT）和電極材料（Pt、Au、Ru、Al）
化合物半導(dǎo)體晶圓的等離子切割，薄型化
選項(xiàng)
難蝕刻材料用特殊電極機(jī)構(gòu)
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